研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。

西安鋼化鍍膜中空玻璃分享研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種：一種主要使用有機(jī)溶劑清洗劑，另一種主要使用半水基清洗劑。

（1）有機(jī)溶劑清洗采用的清洗流程如下：有機(jī)溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。

有機(jī)溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。

（2）半水基清洗采用的清洗流程如下：半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥，此種清洗工藝同溶劑清洗相比最大的區(qū)別在于，其前兩個清洗單元：有機(jī)溶劑清洗只對瀝青或漆片具有良好的清洗效果，但卻無法清洗研磨粉等無機(jī)物；半水基清洗劑則不同，不但可以清洗瀝青等有機(jī)污染物，還對研磨粉等無機(jī)物有良好的清洗效果，從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度很慢，氣味小。